1、靶材面積與承載功率范圍

　　(1) 圓形平面磁控靶功率密度范圍一般為1~25瓦/cm2。

　　(2)矩形平面磁控靶功率密度范圍一般為1~36瓦/cm2。

　　(3)柱狀磁控靶、錐形平面磁控靶(S槍)功率密度范圍一般為40~50瓦/cm2。

2、磁控靶實際承載功率

　　磁控靶的實際的承載功率除了與濺射工藝、薄膜的質(zhì)量要求等因數(shù)有關外，主要與靶的冷卻狀況和散熱條件密切相關。磁控靶按其冷卻散熱方式的不同，分為“靶材直接水冷卻”和“靶材間接水冷卻”兩種。

　　考慮到濺射靶長期使用老化后，其散熱條件變差;兼顧各種不同靶材材質(zhì)的散熱系數(shù)的不同，磁控靶的最終使用時的承載功率，直接水冷卻靶實際的承載最大功率可按略小于功率密度范圍的上限選取;間接水冷卻靶的實際承載最大功率可按功率密度范圍上限值的二分之一左右選取。

　　磁控靶材(主要是Cu，Ag，黃銅(Brass)和Al青銅(Al bronze) “自濺射”時，一般是選用經(jīng)過專門設計“靶材直接水冷卻”的磁控濺射靶。其最終使用時的承載功率，均需大于靶功率密度范圍的上限值(即>100W/cm2以上)。